壓敏電阻采購,就選源林電子,自有工廠
ZnO壓敏電阻器的結構:
晶粒體為電阻率很低的半導體,晶界為絕緣體,類似邊界層電容器,另在晶界形成兩背靠背的肖特基勢壘。因鄰近晶粒的取向不同,兩晶粒交界處結構松弛,雜質占據這些位置比占據體內晶格位置的能量低,所以容易在晶界偏析。
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老化機理:
曾經被認為是老化的起因的有電子陷阱,偶極子轉向,氧脫附和離子遷移,目前能證實的只有填隙鋅離子遷移。一般認為老化是晶界現象,是由于耗盡層內離子遷移,而Zni是主要的遷移離子。
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殘壓比KR
通過壓敏電阻器的電流為某一值時,在它兩端所產生的電壓稱為這一電流值的殘壓。殘壓比則是殘壓與標稱電壓之比。
殘壓比KR的定義公式為:
KR =UR/UN
殘壓比可以比較直觀地反應出壓敏電阻限制過電壓的能力,在壓敏材料的研究工作中已得到廣泛的應用,在防雷壓敏電阻、避雷器閥片和高能型壓敏電阻閥片中以成為標準電性能參數。
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